俄罗斯造出"古董级"光刻机！350纳米工艺落地，比主流技术落后30年

Meise

折腾了整整三十年，俄罗斯终于交出了首台国产光刻机的答卷。莫斯科泽列诺格勒纳米技术中心（ZNTC）最近宣布，他们和白俄罗斯的Planar公司联手搞定了能支持350纳米制程的光刻设备。这台200毫米晶圆尺寸的机器用上了固态激光器，曝光范围22毫米见方，目前正在俄本土进行最后调试。

别看这台设备听着挺唬人，实际技术水准还停留在上世纪90年代——当年英特尔奔腾MMX处理器用的就是这种工艺。如今全球最先进芯片已推进到5纳米制程，俄方这个成果差不多落后了七代。就连俄罗斯自家芯片厂Angstrem和Mikron，现在用的也是250到90纳米工艺，新机器暂时还顶不上主力生产线。

科技爱好者最关心的激光光源部分，俄方倒是卖了个关子。他们只透露用了"更节能、寿命更长"的固态激光器，但具体波长和功率一概保密。对比国际同行，光刻机巨头ASML在350纳米时代主要用水银灯，到130纳米以下才换准分子激光器。专家分析俄方这个固态激光可能用在晶圆检测、零件切割这些辅助环节，离真正的主流光刻还有很大差距。

虽然这机器眼下派不上大用场，但俄方显然在下一盘大棋。泽列诺格勒中心已经启动130纳米光刻机研发，计划2026年完工。配合政府的半导体发展路线图，他们还要在2025年搞出90纳米设备，2027年冲28纳米，2030年挑战14纳米——不过按现在进度，这些目标怕是有点悬。

要说实际用途，350纳米工艺倒也不是完全没用武之地。汽车电子、电源管理芯片这些不追求性能的领域还能凑合用，军用设备对芯片制程要求也不高。但想摆脱对走私ASML设备的依赖，俄罗斯半导体产业还得再加把劲。现在俄企生产线上的主力仍是特殊渠道弄来的ASML PAS 5500系列光刻机，这些"灰色渠道"设备可比新研发的国产货先进多了。