ASML将于2021年推下一代3nm EUV光刻机

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来源：IT之家

ASML正在研发新一代EUV光刻机EXE:5000系列，最快会于2021年面世。

现在ASML销售的光刻机主要为NXE:3400B和改进型的NXE:3400C，结构上相似。差别在于NXE:3400C采用模块化设计，将平均维护时间从48小时缩短到8-10小时；NXE:3400C的产量也从125WPH提升到了175WPH。这两款EUV光刻机属于第一代，物镜系统的NA（数值孔径）为0.33。

在光刻机的分辨率公式中，NA数字越大，代表光刻机精度更高。ASML现在在研发新一代EUV光刻机EXE:5000系列，NA为0.55。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利时微电子中心。

据悉，EXE:5000系列EUV光刻机主要面向3nm时代，目前台积电和三星的制程工艺路线图已经到了3nm，要想让技术尽快落地到实际，EXE:5000系列EUV光刻机的研发极为重要。

据ASML的爆料，EXE:5000系列EUV光刻机样机最快会于2021年面世，最快可能会于2023年或者2024年上市。

光刻机是目前世界上最复杂的精密设备之一，芯片制造的核心设备之一，除了可以用来生产芯片，还有用于封装的光刻机、LED制造领域的投影光刻机。作为全球唯一能生产EUV光刻机的公司——荷兰ASML公司。去年共销售26台EUV光刻机，用于台积电、三星的7nm和5nm工艺制造。