中国光刻机有望解决卡脖子问题 三强联手研发高端光刻机

hnjb163

　　作者：宪瑞

　　在半导体制造中，光刻是最重要的一个环节，同时也是决定半导体工艺水平的关键，高端芯片要光刻多次，占到了制造成本的三分之一，目前全球的光刻机主要垄断在荷兰 ASML、日本佳能、尼康手里。

　　国内也是有光刻机研发生产能力的，不过技术水平比较低，国内公司的光刻机主要用于 90nm 及以上的工艺，先进工艺上依然要依赖进口光刻机，但是这个局面有可能加速改变。

　　日前北京国望光学科技宣布，该公司价值 10 亿元的增资方案已经在北京产权交易所完成，该公司引入了中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国科学院上海光学精密机械研究所作为战略投资者，两家机构以无形资产作价 10 亿元入股，对应持股比例为 33.33%。

　　中科院下属的长春、北京研究所本身也是国内光刻机研发领域的重要力量，现在三家公司进行了紧密合作，意味着北京在推动国产光刻机核心部件生产方面迈出实质性步伐，将加快突破国产中高端光刻机制造“卡脖子”技术难题。