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IT之家 3 月 5 日消息,美光科技公司计划率先支持佳能的纳米印刷技术,从而进一步降低生产 DRAM 存储芯片的单层成本。 美光公司近日举办了一场演讲,介绍在将纳米印刷技术应用于 DRAM 生产的一些细节。美光在演讲中表示 DRAM 节点和沉浸式光刻分辨率问题,名为“Chop”的层数量不断增加,这就意味着添加更多的曝光步骤,来取出密集存储器阵列外围的虚假结构(dummy structures)。 美光公司表示由于光学系统本身性质,这些 DRAM 层的图案很难用光学光刻技术进行印刷,而纳米打印方式可以用更精细的方式打印出来,且鉴于纳米印刷技术应用成本是沉浸式光刻技术的五分之一,因此是非常不错的解决方案。
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