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[业界] 阿斯麦EUV光刻机实现纳米孔全晶圆级制造,推动分子传感技术发展

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发表于 2 小时前 | 显示全部楼层 |阅读模式

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IT之家 12 月 22 日消息,比利时微电子研究中心(IMEC)已成功利用阿斯麦(ASML)最先进的极紫外光刻(EUV)设备,实现了纳米孔的全晶圆级制造。阿斯麦公司公关负责人将此称作其公司设备“一项出人意料的卓越生物医学应用”。鉴于纳米孔为分子传感技术开辟的广阔前景,这项突破或将成为该领域的重要进展。

据IT之家了解,纳米孔的特性在生物医学领域极具研究价值。从名字不难推断,纳米孔本质上是一种微小的孔道,直径仅为数纳米。若用更通俗的表述解释:这类孔道的直径约为人类头发丝的万分之一。
如此微小的孔道有何用途?基于分子与纳米孔的相互作用原理,其可被应用于生物医学传感器。纳米孔检测技术的核心原理如下:
测量流经纳米孔的离子电流;
当分子穿过孔道时,会使电流产生波动,而波动特征可反映出分子的尺寸、结构、电荷属性及相互作用方式;
借助这种独特的电信号特征,就能以高灵敏度区分不同类型的分子。
通过这种方式,经极紫外光刻技术制备的纳米孔,可充当生物医学传感的“分子关卡”,实现对病毒、蛋白质、脱氧核糖核酸(DNA)等单个分子的检测与识别。这一特性对于分子的精准鉴定与分析至关重要。此外,比利时微电子研究中心指出,调整固态纳米孔的尺寸,还可拓展其在过滤技术与分子数据存储领域的应用场景。

为何要采用极紫外光刻设备?现有纳米孔制备方法存在速度慢、局限于实验室环境、成本高昂等缺陷。而比利时微电子研究中心的论文表明,其已成功在整片 300 毫米晶圆上,制备出直径低至约 10 纳米的高均匀性纳米孔。这项兼具量产化、高精度与可重复性的突破,有望终结纳米孔传感器技术迟迟难以落地的困局。





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