台积电联合台大、麻省理工宣布，1nm制程工艺取得重大突破！

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台积电联合台大、麻省理工宣布，在1nm以下芯片方面取得重大进展，研究成果已发表于Nature。该研究发现，利用半金属铋Bi作为二维材料的接触电极，可以大幅降低电阻并提高电流，实现接近量子极限的能效，有望挑战1nm以下制程的芯片，不过距离量产还有不短的时间。不过IBM在5月初首发了2nm工艺芯片，比当前的7nm芯片性能预计提升45%，能耗降低75%，这个可以期待一下。

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有生之年不知道能不能看到真正的可穿戴设备诞生啊

maxyoyo

极限了，1纳米之后芯片工艺何去何从？

yuhuik2013

maxyoyo 发表于 2021-5-20 19:35
极限了，1纳米之后芯片工艺何去何从？

0.1纳米  永无止境

clp139

yuhuik2013 发表于 2021-5-20 19:50
0.1纳米  永无止境

量子隧穿效应了解一下！

yuhuik2013

yuhuik2013 发表于 2021-5-20 19:50
0.1纳米  永无止境

0.8-------0.6------0.4--------0.2 -------0.1
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yuhuik2013

clp139 发表于 2021-5-20 20:40
量子隧穿效应了解一下！

到时候一纳米以下的芯片造出来  你怎么说？

落花萧然

现在的问题是如何突破1nm