三星推动EUV薄膜开发， 以更快地追赶台积电

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罩护膜/薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开的一层薄膜，然后机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，以免光罩受空气中微尘或挥发性气体的污染，同时减少光掩模的损坏。目前该领域的主要供应商是荷兰ASML、日本三井化学和韩国S&S Tech。

三星在Foundry Forum 2021上就宣布自研EUV薄膜，今年初已自主开发出透光率达88%的EUV薄膜。按照三星的说法，该款EUV薄膜应该已量产，这有助于其实现供应链的多元化和稳定。三星当然也不会满足于此，毕竟88%透光率并不是市场上最好的同类产品。



据Business Korea报道，三星半导体研究生近期发布的一份招聘通知显示，正推动开发透光率为92%的EUV薄膜。目前市场上也有透光率达到90%或以上的EUV薄膜，一家是ASML，另外一家是S&S Tech，后者在2021年成功开发出透光率为90%的EUV薄膜。

据了解，三星已开始了对下一代High-NA EUV薄膜的研究，新一代EUV薄膜将基于新材料，同时三星也将与外部机构合作，开发和评估由碳纳米管和石墨烯制成的EUV薄膜。此外，三星也将推动自行开发的纳米石墨薄膜批量生产设施的设计。

三星在晶圆代工领域的头号竞争对手台积电（TSMC）从2019年开始，就使用了自己开发的EUV薄膜，并且在2021年时宣布，其EUV薄膜的产能相比2019年将提高20倍。有业内人士表示，三星推动EUV薄膜的开发，是为了更快地赶上台积电。

liqh

台积电变为美积电了

xushu

咱们什么时候才能制造光刻机.

zrx166

国内慢慢积累，慢慢自循环吧。这事急不来。