武汉光谷实验室研发高性能量子点光刻胶，有望应用于 micro-LED

数码芝华士

武汉光谷实验室宣布与华中科技大学等研究团队合作研发出高性能量子点光刻胶（QD-PR），其蓝光转换效率达到 44.6%（绿色）和 45.0%（红色），光刻精度达到 1 μm，各项性能指标为行业领先水平。

▲高性能量子点光刻胶

据介绍，目前主流的 RGB 三色 micro-LED 全彩技术，存在巨量转移次数多、成本高昂、驱动控制电路复杂、不同颜色光衰不同等问题，并且由于 micro-LED 尺寸减小，红色 LED 的发光效率急剧下降。而使用单色蓝光 micro-LED 激发绿色和红色荧光材料实现全彩化显示可以规避上述问题。

▲量子点光刻胶的性能指标

基于高性能的量子点光刻胶，研究团队实现了高精度的量子点像素。

▲量子点光刻像素

IT之家获悉，这些量子点色转换像素还表现出优异的稳定性，在空气中 75℃加热 120 小时后仍能保留原始发光性能的 92.5%（红色）和 93.4%（绿色）。

通过红绿量子点套刻，配合蓝色面光源，研究团队获得了高精度的基于量子点色转换像素的静态图案。

▲量子点色转换像素构成的静态图案

jtwbs

实验室而已，希望尽快落地商用吧

zrx166

不是芯片用的光刻胶吧。

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是我们理解的那个光刻胶吗。