苹果新专利：Face ID将用超薄光学元件，解锁更快更准

Meise

科技媒体 patentlyapple 昨天（5月28日）曝光了苹果一项重要新专利——这项技术可能彻底改变 Face ID 的工作方式！专利显示，苹果计划用​​超表面光学元件（MOE）​​ 取代现有的​​衍射光学元件（DOE）​​，让面容识别模组更小、更便宜、更精准。

​​当前方案：DOE的局限​​
现在 iPhone 上的 Face ID，靠的是衍射光学元件（DOE）来投射数万个红外光点，在脸上形成独特的点阵图案，再通过红外摄像头捕捉进行 3D 建模识别。这套系统属于​​结构光投影模组​​，里面通常包含 DOE 和准直透镜等多个光学部件。虽然苹果已经把它做得足够小塞进了手机，但追求极致的苹果觉得：​​还能更小！​​

​​新专利：MOE 上场，一招顶多招​​
苹果的解决方案是革命性的​​超表面光学元件（MOE）​​。它的厉害之处在于：

​​高度集成：​​ 把原来需要 DOE 和准直透镜分别干的两件事——​​分割光束​​和​​准直（让光线平行）​​——​​集成在了一个薄薄的平面元件里​​。
​​体积暴减：​​ 光学模组整体体积大幅缩小，给寸土寸金的手机内部腾出宝贵空间。
​​成本降低 & 良率提升：​​ 元件少了，组装步骤简化了，生产更容易，成本自然下降，制造误差的影响也小了。
​​精度升级：​​ MOE 还能​​同时调整投影模组的光轴倾斜角度​​，让投射出的点阵图案和红外摄像头的视野（FOV）​​完美重合​​。这意味着点阵能更均匀、更完整地覆盖摄像头“看到”的区域，3D 建模自然更精准。

​​智能切换，场景适应更强​​
专利还透露，新系统可以通过控制器​​智能切换工作模式​​：需要深度信息时激活​​点阵图案照明​​进行精确 3D 扫描；在光线不足或需要快速识别时，则切换到​​泛光照明​​模式照亮整个面部。这种灵活性让 Face ID 在各种环境下都能更可靠、更快速地工作。

​​这意味着什么？​​
如果这项专利技术最终落地，未来的 iPhone（或 iPad）用户有望体验到：

​​更窄的“刘海”或“药丸”：​​ 光学模组小了，屏幕顶部的开孔区域有望进一步收窄。
​​解锁更快更准：​​ 点阵与视野匹配更佳，识别速度和成功率可能再提升。
​​生产成本控制：​​ 元件和组装简化，有助于控制整机成本。

当然，专利获批不代表马上商用，但苹果持续投入研发更先进的 Face ID，目标很明确：在安全和便捷之间找到更完美的平衡点，同时把“碍眼”的区域缩到最小。下一次 iPhone 大改款，这个藏在专利里的“超表面”技术，说不定就会惊艳亮相。