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[科技] 我国半导体激光隐形晶圆切割技术重大突破:100nm 提升至 50nm

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发表于 2021-9-29 18:29:20 | 显示全部楼层 |阅读模式

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IT之家 9 月 29 日消息 半导体产业被称为国家工业的明珠,现在国家和各大企业开始攻关半导体技术,而其中晶圆切割则是半导体封测工艺中不可或缺的关键工序。
中国长城今日宣布,旗下郑州轨道交通信息技术研究院联合河南通用智能装备有限公司,用一年时间完成了半导体激光隐形晶圆切割设备的技术迭代,分辨率由 100nm 提升至 50nm,达到行业内最高精度,实现了晶圆背切加工的功能,大幅提升芯片生产制造的质量、效率、效益。

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