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来源:eefocus
佳能于 1970 年发售了日本首台半导体光刻机「PPC-1」,今年是佳能正式投入半导体光刻机领域 50 周年。半导体器件被广泛应用于从智能手机到汽车等各个领域,在其制造过程中半导体光刻机必不可少。随着数字技术的迅速发展,佳能的半导体光刻机也在不断升级。
佳能光刻机的历史始于对相机镜头技术的高度应用。灵活运用 20 世纪 60 年代中期在相机镜头开发中积累的技术,佳能研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后,为了进一步扩大业务范围,佳能开始了半导体光刻机的研发,并于 1970 年成功发售日本首台半导体光刻机「PPC-1」,正式进入半导体光刻机领域。
佳能于 1975 年发售的「FPA-141F」光刻机在世界上首次实现了 1 微米以下的曝光,此项技术作为“重要科学技术历史资料(未来技术遗产)”,于 2010 年被日本国立科学博物馆产业技术历史资料信息中心收录。
目前佳能的光刻机阵容包括 i 线光刻机和 KrF 光刻机产品线,并根据时代的需求在不断扩大应用范围。今后,佳能将继续扩充半导体光刻机的产品阵容和可选功能,以支持各种尺寸和材料的晶圆以及下一代封装※6工艺。此外,在尖端领域为满足电路图案进一步微细化的需求,佳能也在致力于推进纳米压印半导体制造设备※7的研发,并使之能应用于大规模生产。
自 1986 年起,佳能将半导体光刻机技术应用于平板显示器制造领域,开始开发、制造和销售平板显示曝光设备。今后佳能也将继续致力于提高清晰度和生产效率,以满足液晶和 OLED 显示设备制造的需求。
佳能投入半导体领域迎来 50 周年,今后将继续提升光刻设备技术,为社会发展做出贡献。
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