ASML联手imec组建半导体创新联盟：瞄准2纳米以下芯片技术

Meise

"造芯片的终极武Q要升级了！"2025年3月12日，光刻机巨头ASML与比利时微电子研究中心imec签署五年合作协议，双方将整合全球最尖端的光刻系统，在比利时打造可研发2纳米以下制程的半导体试验线。这项合作获得欧盟、荷兰及佛兰德斯区政府共同注资，被视为欧洲保持芯片竞争力的关键布局。

根据协议，ASML将向imec实验室输送包括0.55高数值孔径极紫外光刻机在内的全套设备，这些价值数亿欧元的尖端仪器将组成"芯片研发超级实验室"。试验线建成后，不仅能验证新一代光刻技术，还将探索硅光子、3D堆叠等突破性封装方案，为人工智能芯片提供全栈式解决方案。

值得关注的是，双方特别设立环保创新基金，计划在降低芯片制造能耗、减少化学废弃物等领域投入研发。ASML首席执行官克里斯托夫·富凯表示："我们不仅要突破技术极限，更要让半导体产业变得更绿色。" imec负责人卢克·范登霍夫透露，试验线已吸引台积电、三星等十多家企业预定使用时段。

这条试验线背后有欧盟《芯片法案》支持，荷兰政府通过IPCEI项目注资建设。欧盟数字事务专员玛格丽特·维斯塔格评价称，这是欧洲保持技术主权的战略性投资。按照规划，2026年前将完成首套0.55NA EUV系统调试，2027年实现2纳米以下制程验证。

业内人士分析，该试验线将成为全球芯片巨头的"技术竞技场"。目前英特尔、美光等企业正排队等候接入，未来谁能率先突破物理极限，或许就取决于在这条试验线上的研发成果。