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[业界] 英特尔提升良率细节:减少晶圆边缘差异增加产出

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发表于 昨天 21:01 | 显示全部楼层 |阅读模式

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科技媒体 Tom's Hardware 昨日(4 月 29 日)发布博文,报道称英特尔通过优化晶圆边缘良率分布,成功提升单晶圆营收,进一步提高了利润空间。
IT之家曾于 4 月 24 日报道,英特尔公布 2026 年第 1 季度财报,营收为 136 亿美元(IT之家注:现汇率约合 930.08 亿元人民币),同比增长 7%,连续第六个季度超出预期。而得益于提升产量、改善良率以及市场需求旺盛,其客户端与数据中心处理器销量显著增长。
英特尔代工负责人 Naga Chandrasekaran,图源:英特尔
TechInsights 副主席 Dan Hutcheson 表示,虽然分级(binning)和统计过程控制(SPC)已是英特尔约 40 年的标准实践,但自 2024 年底英特尔代工负责人 Naga Chandrasekaran 加入后,公司重点转向减少晶圆边缘相关差异,从而收紧晶圆整体的良率分布。
Hutcheson 解释称,在制造领域,实现此类显著变革通常需要一两年时间。英特尔自 20 世纪 80 年代以来一直采用批次分级策略,晶圆从中心到边缘的良率分布始终存在差异。
Naga Chandrasekaran 的良率管理工作成功缩小了晶圆边缘的良率分布范围,让公司能够以极低成本获取更多单晶圆营收。
这一改进的核心优势在于其独立于具体工艺节点,具有广泛的适用性。通过减少边缘变异性,英特尔将原本可能被废弃的边缘芯片转化为可销售产品,直接贡献于营收增长。

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