英伟达与Meta押注AI材料 联合发力半导体底层基材研发

刘绪刚

快科技7月21日消息，据The Guardian，Meta与英伟达将共同参与英国AI初创公司CuspAI的核心材料发现项目，致力于推动半导体行业下一代制造材料的突破性研发。
CuspAI此前已获亚马逊创始人杰夫·贝佐斯及英国政府战略投资，本月初完成4.5亿美元融资，投后估值达26亿美元。
三方共同启动的“AI材料铸造厂”合作计划，旨在依托AI技术重构传统材料研发流程。英伟达将向CuspAI开放最新的大规模GPU加速计算集群，为复杂的材料物理化学模拟模型提供顶级算力支撑；Meta的基础AI研究团队则深度参与算法优化与大模型训练，提升材料筛选的精准度与效率。
CuspAI的核心技术路径，是通过AI模拟替代传统实验室反复试错的研发模式，将新材料的筛选验证周期从数年压缩至数月，效率提升数个量级。
项目聚焦当前半导体行业的核心瓶颈，重点研发性能更优异的新型介电材料、芯片内部导电通道材料及高导热散热材料，助力芯片制造商突破先进制程逼近物理极限的困境，为下一代更小制程、更高性能芯片的落地扫清材料障碍。
                        

CuspAI创始人兼CEO Chad Edwards表示，过去半个世纪半导体行业的每一次重大跨越，几乎都离不开关键新材料的突破，而AI技术正将材料发现的效率推向前所未有的高度。

目前，“AI材料铸造厂”生态已吸引45家机构加入，涵盖全球顶尖学术实验室、国家级材料研究机构及头部半导体企业，各方将共同搭建开放共享的材料科学数据体系，打破传统行业数据孤岛的痛点。
CuspAI同时宣布将在新加坡设立区域总部，计划18个月内将全球团队规模从当前的120人扩张至300人以上，加速全球研发网络布局。