随着制程节点迈入7nm,EUV极紫外光刻工艺将在未来的半导体芯片制造上成为主流。近日,三星宣布将率先为DRAM内存颗粒生产引入EUV工艺。
三星表示,将从第四代10nm级(D1a)DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV,2021年大规模量产的DDR5和LPDDR5内存芯片将因此受益,预计会使12英寸晶圆的生产率翻番。根据三星此前判断,EVU工艺将帮助其将制程节点 推进到3nm,那么在未来7nm、5nm制程节点上,EUV将发挥极大作用。
使用道具 举报
车载U盘2 澳宝沐浴露3瓶26 名流
4.24-窗户隔热膜1!接口转换器2
仁和护眼片12!星鲨维D滴剂3盒56
4.24-仁和护眼片12!星鲨维D滴剂
4.24白菜!防蚊门帘5 伸缩遮阳帘
4节电池1 磁吸感应灯6 三枪短袜5
本版积分规则 发表回复 回帖并转播 回帖后跳转到最后一页
APP|手机版|小黑屋|关于我们|联系我们|法律条款|技术知识分享平台
闽公网安备35020502000485号
闽ICP备2021002735号-2
GMT+8, 2024-4-24 22:33 , Processed in 0.109200 second(s), 9 queries , Redis On.
Powered by Discuz!
© 2006-2023 smzj.net