直逼1nm工艺 ASML下一代EUV光刻机延期

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稿源：快科技

ASML公司前两天发布了财报，全年净销售额140亿欧元，EUV光刻机出货31台，带来了45亿欧元的营收，单价差不多11.4亿欧元了。虽然业绩增长很亮眼，但是ASML也有隐忧，实际上EUV光刻机的出货不及预期的35台，而且他们还宣布了下一代高NA的EUV光刻机要到2025-2026年之间才能规模应用，意味着要延期了。

此前信息显示，ASML下一代EUV光刻机最早是2022年开始出样，大规模量产是2024-2025年间。

ASML的EUV光刻机目前主要是NEX:3400B/C系列，NA数值孔径是0.33，下一代EUV光刻机是NEX:5000系列，可将NA提升到了0.55，意味着光刻机的分辨率提升了70%。（注：NA越高，光刻机精度越高）

目前的EUV光刻机可以用于制造7nm到3nm工艺的芯片，下代EUV光刻机则是针对3nm以下的节点，2nm甚至未来的1nm工艺都要用到NA 0.55的EUV光刻机。