生产力提升15% ASML交付首台极紫外光刻机

刘绪刚 · 发表于 2021-7-24 21:34:48

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[ 中关村在线原创 ] 作者：赵悟省

芯研所消息，ASML第一台全新TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻机系统已经交付给客户，和前代产品相比生产力提高了约15-20％，套刻精度提高了约30％。

据了解，本次交付的TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻机的EUV光源波长13.5nm左右，物镜NA数值孔径0.33，第二代EUV光刻机将会是NXE:5000系列，物镜NA提升到0.55，进一步提高光刻精度。

ASML表示，正努力增加EUV光刻机在存储行业的量产应用，计划协助三个DRAM内存芯片客户在未来的工艺节点中导入EUV。

hpljp1007 · 发表于 2021-7-25 07:44:12

目标已经确定，有组织的人去努力，没组织的人加油

奶瓶_NP · 发表于 2021-7-25 10:43:16

加油加油加油,希望IC产业越做越好

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[业界] 生产力提升15% ASML交付首台极紫外光刻机