消息称三星电子、SK海力士均将向ASML EUV光刻机投资超10万亿韩元

刘绪刚

IT之家 11 月 10 日消息，韩媒《ChosunBiz》当地时间本月 8 日报道称，该国两大半导体企业三星电子、SK 海力士正竞相采购 ASML 的 EUV 光刻机，相关投资额均在 10~20 万亿韩元（IT之家注：现汇率约合 491.3 ~ 982.6 亿元人民币）区间。

作为这波 AI 半导体浪潮中受益最为明显的那批企业，三星电子、SK 海力士都在努力提升晶圆厂产能，而 EUV 机台是产能增长的关键要素。
SK 海力士今年 3 月确认将于 2026~2027 两年向 ASML 采购 11.95 万亿韩元的 EUV 光刻机，其龙仁 Y1 晶圆厂预计 2027 年 2 月启用首个无尘室；另一方面，三星电子承诺 2028 年将 High NA EUV 用于 DRAM 量产，其平泽 P5 预计 2027 年中导入设备。
两家企业均拥有庞大的 EUV 设备需求，而半导体设备的交付周期正普遍延长，提前下单有助于确保产能按规划上线。