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[产品] Oak研发无掩膜直写光刻设备 实现1μm线宽与0.5μm对位精度

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发表于 昨天 19:32 | 显示全部楼层 |阅读模式
朋友们,今天咱们聊点硬核科技!日本Oak制作所最近搞出了个让半导体行业眼前一亮的黑科技——直接曝光装置。这玩意儿到底厉害在哪?简单说就是能在芯片上直接刻电路,连传统的光罩都省了!

现在AI这么火爆,芯片制造可是个既烧钱又费时的活儿。传统方法得先制作光罩,就像印刷前得先制版,一套流程下来既费时间又烧钱。而Oak这个新技术,就好比直接用激光打印机,想打什么图案就打什么,省事又省钱!

这个项目来头可不小,是日本国家级科研机构NEDO重点扶持的"节能电子制造基础强化技术开发项目"的重要组成部分。从2022年开始,他们就投入研发这项技术,如今终于结出硕果。最新研发的设备表现相当惊艳:不仅能刻出1微米宽的精细电路(相当于头发丝直径的百分之一),还能在有机材料上做出2微米宽的铜线路。

最让人叫绝的是它的定位精度。通过高精度相机实时扫描定位,在510×515mm的加工区域内,对位精度达到了0.5微米。打个比方,这就像在足球场上给蚂蚁戴眼镜,还能戴得严丝合缝!

更智能的是它的自动纠错能力。就算芯片放置有轻微偏差,系统也能实时检测并自动调整,确保电路刻得精准无误。这种技术特别适合现在流行的芯片堆叠封装工艺,就像给摩天大楼安装电梯,必须每层都精确对准才行。

值得一提的是,这项技术还能实现"逐芯片对位"。当多个连接芯片嵌入中介层时,设备可以智能检测位置偏差,并自动校正曝光图案的位置。这就好比有个智能导航系统,能实时修正路线确保最终到达目的地。

按照计划,这款创新设备将在2025年内正式上市,2026年还会推出系列化产品。业内人士表示,这将为芯片级封装、2.5D/3D封装等先进封装技术提供更经济高效的解决方案。看来半导体制造业又要迎来新突破,未来造芯片可能会像打印文件一样方便高效!

(本文基于Oak制作所官方发布信息及NEDO项目资料整理)







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发表于 5 小时前 | 显示全部楼层
如果成熟了,那不成了台积电的强劲对手。
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